植物冠層圖像分析儀主要是用于分析植物冠層特點的儀器，其研究的內(nèi)容主要是和光有關的，比如冠層光能資源調(diào)查，測量植物冠層中光線的攔截，研究作物的生長發(fā)育、產(chǎn)量品質(zhì)與光能利用間的關系等。

 

植物冠層分析儀采用了冠層孔隙率與冠層結構相關的原理。它是根據(jù)光線穿過介質(zhì)減弱的比爾定律，在對植物冠層定義了一系列假設前提的條件下，采用半理論半經(jīng)驗的公式，通過冠層孔隙率的測定，計算出冠層結構參數(shù)。采用的是對冠層下天穹半球圖像分析測量冠層孔隙率的方法。

 

植物冠層分析儀廣泛適用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)領域有關栽培、育種、 植物群體對比與發(fā)展的研究與教學中農(nóng)作物、果樹、森林內(nèi)冠層受光狀況的測量和分析。能測算植物冠層的太陽直射光透過率、天空散射光透過率、冠層的消光系數(shù)，葉面積指數(shù)和葉片平均傾角等。

 

植物冠層分析儀測量時需要考慮的影響因素：

 

1、斜坡的影響：應該使傳感器保持與斜坡相匹配，而不是實際的水平。

 

2、樣地尺寸：如果樣地尺寸太小，要注意保證傳感器的視野范圍是冠層高度的3倍，可以采用去除第5個環(huán)的數(shù)據(jù)來解決這個問題，也可以采用觀察帽的方法。

 

3、光線：直射的陽光：應盡可能避免直射的陽光，盡量在日出日落時或多云的天氣進行測量，如果避免不了，那么需要注意：使用270度的遮蓋帽或更小的視野遮蓋帽；背對陽光進行測量，遮擋住日光和操作者本身；對植物冠層進行遮陰處理；天空云分布不均勻?qū)е鹿饩€不均勻的天氣條件：等待云彩飄過并遮擋了陽光時再進行測量。適宜光線條件：均勻的陰天或者散射光照下才能測量。zui易找到合適的測量時間往往是黎明之前和日落之后的瞬間。作為一般原則，如果可以看到地上的影子或者林冠上有陽光照射的葉子，這時的天空的光照條件就沒有滿足。

 

4、葉片與傳感器的距離限制：一個葉片與傳感器的距離是重要的，太近將導致測量的誤差。簡單的計算方法是根據(jù)采用的遮蓋帽的角度來得到距離因子參數(shù)，再除以B值的重復次數(shù)，再乘以葉片的寬度，即得到zui小需要的距離了。如果距離無法縮小，可以考慮增加重復次數(shù)來解決這個問題。